Vill semiconductor Produiten am Prozess vun Produktioun muss GRAPHITE Pudder der Leeschtung vun de Produit ze förderen, am Gebrauch vun semiconductor Produiten, GRAPHITE Pudder brauchen de Modell vun héich Rengheet, fein granularity ze wielen, héich Temperatur resistent géint, nëmmen Aklang mat der Noutwendegkeete vun esou, kann an der selwechter Zäit vun semiconductor Produiten, wäert net en negativen Effekt hunn, GRAPHITE Pudder am Aklang mat ënnen kleng maachen fir Iech schwätzen iwwer wat Konditiounen fir semiconductor benotzen?
Graphitpulver
1, muss d'Produktioun vun semiconductor héich Rengheet GRAPHITE Pudder wielen.
Semiconductor Industrie fir déi héich Nofro fir GRAPHITE Pudder Material, d'Rengheet fir déi méi héich, déi besser, besonnesch GRAPHITE Komponente kommen an direkten Kontakt mat der semiconductor Material, wéi sintering Ofdréck, Gëftstoffer Inhalt an Pollutioun semiconductor Material, also net nëmme fir d'Benotzung vun GRAPHITE soll strikt d'Rengheet vun Matière première kontrolléieren, mä och duerch héich Temperatur graphitization Behandlung, den Asche Inhalt op e Minimum Mooss.
2, d'Produktioun vun Halbleiter muss héich Partikelgréisst Graphitpulver wielen.
Semiconductor Industrie GRAPHITE Material erfuerdert fein Partikelgréisst, fein Partikelgrafit ass net nëmmen einfach d'Veraarbechtungsgenauegkeet z'erreechen, an d'Héichtemperaturkraaft, de klenge Verloscht, besonnesch fir Sinterform erfuerdert héich Veraarbechtungsgenauegkeet.
3, muss d'Produktioun vun semiconductor héich Temperatur GRAPHITE Pudder wielen.
Well Graphit-Geräter, déi an der Halbleiterindustrie benotzt ginn (inklusiv Heizungen a Sinterstierwen) musse widderholl Heiz- a Killprozesser widderstoen, fir de Liewensdauer vu Graphit-Geräter ze verbesseren, ginn d'Graphitmaterialien an héijer Temperatur mat gudder Dimensiounstabilitéit an thermescher Impaktleistung benotzt. .
Post Zäit: Nov-26-2021